自噬 - 按“信号通路”分类 - 小分子和化合物库 | 纯度: ≥99.95% metals basis, ≥98%(TLC)

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碳酰氰 4-(三氟甲氧基)苯腙（FCCP）
- ≥98%(TLC)
CAS号 : 370-86-5 Compound CID : 3330

分子式: CF₃OC₆H₄NHN=C(CN)₂ 分子量: 254.17

IUPAC Name: 2-[[4-(trifluoromethoxy)phenyl]hydrazinylidene]propanedinitrile

SMILES: C1=CC(=CC=C1NN=C(C#N)C#N)OC(F)(F)F

InChIKey: BMZRVOVNUMQTIN-UHFFFAOYSA-N

InChI: InChI=1S/C10H5F3N4O/c11-10(12,13)18-9-3-1-7(2-4-9)16-17-8(5-14)6-15/h1-4,16H
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卡铂
- ≥99.95% metals basis
CAS号 : 41575-94-4 Compound CID : 426756

分子式: C₆H₁₂N₂O₄Pt 分子量: 371.25

IUPAC Name: azanide;cyclobutane-1,1-dicarboxylic acid;platinum(2+)

SMILES: C1CC(C1)(C(=O)O)C(=O)O.[NH2-].[NH2-].[Pt+2]

InChIKey: VSRXQHXAPYXROS-UHFFFAOYSA-N

InChI: InChI=1S/C6H8O4.2H2N.Pt/c7-4(8)6(5(9)10)2-1-3-6;;;/h1-3H2,(H,7,8)(H,9,10);2*1H2;/q;2*-1;+2
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